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對位平臺功能介紹及用法
日期：2026-06-09 08:43
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摘要：
對位平臺由于人工衍生出來的各種問題應運而生,諸如高度要求的良率,生產速度的大幅提升,人員無法達成的精準度等等,對于未來這種高度自動化程度的產業更是不可或缺的產品。
目前對位平臺的應用,主要在高速,高精度需求的產業,例如半導體業的晶圓切割,封裝檢測,PCB制造業的曝光機,網印機,貼合機,壓合機,PCB板裁切,手機制造業,LCD/LED面板制造業,太陽能產業的太陽能板銀絲印刷，以上這些產業只不過是對位平臺使用者的先驅,未來在自動化程度日漸加速的成長勢頭之下,將會有更多的產業運用此種的有如〝自動化設備CPU〞之稱的對位平臺。
對位平臺就是一種利用XY向的移動單元加上θ角的微量轉向,達到兩個工作物體的組合。
其作法有
1.XYθ 對位平臺:就是以一組X,一組Y向的模組,疊加起來,在上方安置一個旋轉機構,成為一個XYθ對位平臺,一般精度比較低
2.UVW 對位平臺: 就是以兩組X電動模組,一組Y向的電動模組,疊加起來,在上方安置一個電動旋轉機構,成為一個UVW對位平臺,精度比前者要高
3.XXY 對位平臺:就是二個X軸向電動模組,以及一個Y軸向模電動組加上一個自由軸模組組成的XXY對位平臺,他可以利用個軸模組內加裝的轉盤,在XXY軸同動時產生出θ角的微量旋轉，精度相當的高
4.XXYY 對位平臺:顧名思義就是二個X軸向電動模組,以及二個Y軸向電動模組組成的XXYY對位平臺,精度,對位速度,機體的剛性都是相對上項各種產品中*高,制造難度也*大的
對位平臺*早是源自于德國,采用的方式是用pin針撥動有著磁力開關的frame,讓上方不動的玻璃得以和下方的框架結合，到了日本則被改為以電的三向UVW來命名的UVW平臺,然后以此為藍本,工程師再將其縮小,并大大的降低了高度,組合出了現在常看到的XXY形式的對位平臺。原始的磁力開關也進化到以導軌甚或交叉導軌組裝的單體模組,以及由三軸電機甚或四軸電機帶動的高精度對位平臺。